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深圳東日瀛能：實(shí)驗(yàn)室管道中硫酸霧濃度在線監(jiān)測(cè)解決方案

更新時(shí)間：2022-10-25  |  點(diǎn)擊率：1049


實(shí)驗(yàn)室管道

硫酸霧在線監(jiān)測(cè)預(yù)處理系統(tǒng)

 

技術(shù)方案

 

一、概況

根據(jù)貴方提出的實(shí)驗(yàn)室管道硫酸霧監(jiān)測(cè)需求，公司所推出的SK-7500-H2SO4-JSSY型、SK-7500-H2SO4-SSY型硫酸霧在線監(jiān)測(cè)預(yù)處理系統(tǒng)可以連續(xù)監(jiān)測(cè)硫酸霧，或搭配監(jiān)測(cè)NH3、HCL、HNO3等多項(xiàng)相關(guān)參數(shù)。

硫酸霧在線監(jiān)測(cè)預(yù)處理系統(tǒng)是東日瀛能科技針對(duì)環(huán)境中固定污染源的煙氣、廢氣等氣體進(jìn)行實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)的一種氣體檢測(cè)產(chǎn)品；是集氣體采樣、氣體過(guò)濾、氣體降溫除濕、流量控制、實(shí)時(shí)濃度顯示、無(wú)線數(shù)據(jù)上傳、環(huán)保聯(lián)網(wǎng)、本地聲光報(bào)警、設(shè)備聯(lián)動(dòng)等功能為一體的標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、專業(yè)化揮發(fā)性氣體檢測(cè)儀系統(tǒng)集成產(chǎn)品；產(chǎn)品采用專業(yè)三防設(shè)計(jì)，直接戶外使用；硫酸霧在線監(jiān)測(cè)預(yù)處理系統(tǒng)經(jīng)主動(dòng)采樣、專業(yè)樣氣預(yù)處理后，將干凈、干燥、恒定的樣氣送至氣體檢測(cè)儀表。具體反應(yīng)速度更快、抗干rao能力更強(qiáng)、測(cè)量更精準(zhǔn)、壽命長(zhǎng)久等特點(diǎn)；無(wú)線HJ 212協(xié)議數(shù)據(jù)上傳，可無(wú)縫對(duì)接當(dāng)?shù)丨h(huán)保監(jiān)測(cè)平臺(tái)；因其zhuo越性能和良好表現(xiàn)，不僅可以作為企業(yè)內(nèi)的有組織或無(wú)組織的氣體排放使用，還可以為環(huán)保監(jiān)測(cè)等部門提供數(shù)據(jù)決策支持。

SK-7500-H2SO4-JSSY 硫酸霧在線監(jiān)測(cè)預(yù)處理系統(tǒng)適用于常溫（-20℃～+50℃）、高壓、負(fù)壓、潮濕、含焦油、含粉塵的監(jiān)測(cè)環(huán)境。（根據(jù)具體工況而定）

SK-7500-H2SO4-SSY 固定污染源硫酸霧在線監(jiān)測(cè)預(yù)處理系統(tǒng)適用于高溫（-20℃～+200℃）、高壓、潮濕、含油、含水、含粉塵的惡劣監(jiān)測(cè)環(huán)境。（根據(jù)具體工況而定）

二、執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)

GB3836.1-2010《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設(shè)備 第一部分：通用要求》

GB3836.2-2010《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設(shè)備 第二部分：隔爆型“d" 》

GB 3836.15-2000 《爆炸性氣體環(huán)境用電氣設(shè)備第 15 部分：危險(xiǎn)場(chǎng)所電氣安裝( 煤礦除外) 》

GBT50493-2019 《石油化工可燃?xì)怏w和有毒氣體檢測(cè)報(bào)警設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)》

GB12358-2006 《作業(yè)場(chǎng)所環(huán)境氣體檢測(cè)報(bào)警儀通用技術(shù)要求》

GBZ 2.1-2007 《工作場(chǎng)所有害因素職業(yè)接觸限值》

GB 4208-2008 《外殼防護(hù)等級(jí)（IP 代碼）》

GB 16297－1996《大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》

GB/T 16157-1996《固定污染源排氣中顆粒物測(cè)定與氣態(tài)污染物采樣方法》

HJ/T 76-2017《固定污染源排放煙氣連續(xù)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)技術(shù)要求及檢測(cè)方法》

 

 

三、設(shè)計(jì)方案

3.1監(jiān)測(cè)參數(shù)

在線監(jiān)測(cè)因子：硫酸霧。

3.2監(jiān)測(cè)方法

采樣方法：泵吸取樣

硫酸霧監(jiān)測(cè)原理：電化學(xué)

3.3安裝位置

采樣點(diǎn)：管道

分析儀表：壁掛式、地角安裝

3.4公用工程條件

監(jiān)測(cè)設(shè)備電源：220VAC 用于設(shè)備供電。4-20MA、RS485等多種信號(hào)輸出，既可方便接入 PLC、DCS、DDC 等工控系統(tǒng)，也可以作為單機(jī)控制使用；

3.5廢氣監(jiān)測(cè)系統(tǒng)組成

 

該裝置為機(jī)、電、儀一體化成套分析控制裝置。包含取樣探頭、探頭反吹、取樣管線、預(yù)處理單元、機(jī)柜等部分；系統(tǒng)整體采用分析機(jī)柜式結(jié)構(gòu)，成套裝置由分析機(jī)柜組件和安裝在工藝管線上的取樣探頭組件構(gòu)成。（根據(jù)具體工況而定）

3.5.1分析機(jī)柜組件

分析機(jī)柜內(nèi)包含以下單元：

a.預(yù)處理單元

預(yù)處理單元由冷凝器、蠕動(dòng)泵、電磁閥、抽氣泵、減壓閥、精細(xì)過(guò)濾器、轉(zhuǎn)子流量計(jì)等組成；其功能是完成樣氣的凈化、除塵、穩(wěn)壓、穩(wěn)流。最后將符合分析儀要求的干凈、流量穩(wěn)定的被測(cè)樣氣，源源不斷送入分析儀器，從而確保了分析儀器的準(zhǔn)確性和長(zhǎng)期可靠性。

b.分析單元

分析儀采用電化學(xué)法對(duì)硫酸霧進(jìn)行測(cè)量。

c.控制單元

本系統(tǒng)采取自動(dòng)取樣、自動(dòng)反吹等工作方式，可以搭配工廠中的風(fēng)機(jī)、閥門、噴淋系統(tǒng)等設(shè)備來(lái)使用，通過(guò)內(nèi)部開關(guān)量信號(hào)實(shí)現(xiàn)聯(lián)動(dòng)。此外，其監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)還可以通過(guò)專用配套軟件實(shí)時(shí)接收，并且可以實(shí)現(xiàn)多路統(tǒng)一管理以及數(shù)量的擴(kuò)充。存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)還可以任意選取時(shí)間段進(jìn)行查詢，曲線顯示，數(shù)據(jù)EXCEL導(dǎo)出等，使得監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)一目了然。


SK-7500-H2SO4-JSSY型參考圖


SK-7500-H2SO4-SSY型參考圖

 

3.5.2氣體污染物采樣器

煙氣氣態(tài)污染物采樣器（以下簡(jiǎn)稱取樣探頭）

 

3.5.3不銹鋼氣體污染物檢測(cè)儀

637961776136894754713.jpg

 

名稱

不銹鋼硫酸霧檢測(cè)儀

型號(hào)

SK/MIC-600-H2SO4-SSY

檢測(cè)原理

電化學(xué)

檢測(cè)量程

H2SO4:0-20mg/m3

線性度

±1.5%F.S.

示值誤差

≤±3%

重復(fù)性

<±1%F.S.

零點(diǎn)漂移

<±1%F.S.

量程漂移

<±1%F.S.

工作溫度

-20～50℃

響應(yīng)時(shí)間（T90）

<30秒

輸出信號(hào)

①4-20mA信號(hào)：標(biāo)準(zhǔn)的12位精度4-20mA輸出芯片，傳輸距離1000m

②RS485信號(hào)：采用標(biāo)準(zhǔn)MODBUS RTU協(xié)議，傳輸距離1200m

③電壓信號(hào)：0.4-2V,0-5V、0-10V輸出，選配（電壓輸出與電流輸出二選一）

④開關(guān)量信號(hào)：標(biāo)配1組無(wú)源觸點(diǎn)繼電器，容量220VAC 3A/24VDC 3A

⑤GPRS、4G、WIFI、LORA、ZigBee等無(wú)線信號(hào)選配

接收設(shè)備

用戶電腦、控制報(bào)警器、PLC、DCS、DDC等

防護(hù)等級(jí)

IP66 防水濺和短時(shí)間雨淋

3.6系統(tǒng)控制及數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

3.6.1系統(tǒng)界面與數(shù)據(jù)儲(chǔ)存、導(dǎo)出

在線監(jiān)控系統(tǒng)是本公司自行開發(fā)的針對(duì)煙氣、廢氣、尾氣連續(xù)監(jiān)控系統(tǒng)。本系統(tǒng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)從分析儀傳輸過(guò)來(lái)的數(shù)據(jù)，存儲(chǔ)到數(shù)據(jù)庫(kù)，可選配顯示當(dāng)前的排放率、排放總量及系統(tǒng)報(bào)表顯示與輸出。

可通過(guò)485接口采集濃度數(shù)據(jù)，并實(shí)現(xiàn)存儲(chǔ)、匯總、報(bào)表輸出、向數(shù)采儀發(fā)送數(shù)據(jù)等功能。

對(duì)于比較簡(jiǎn)單的應(yīng)用，分析儀可以將數(shù)據(jù)直接通過(guò)4-20mA或485發(fā)送的PLC/DCS等工控系統(tǒng)。

四、系統(tǒng)配置清單

序號(hào)

貨品名稱

型號(hào)規(guī)格

數(shù)量

備注

1.硫酸霧在線監(jiān)測(cè)預(yù)處理系統(tǒng)

1.1

抽取式預(yù)處理機(jī)柜

高效過(guò)濾器

1套

一級(jí)過(guò)濾，過(guò)濾少量水汽與粉塵

采樣泵

1套

負(fù)壓度為-50KPa

降溫除濕冷凝器

1套

選配，高效降溫除濕，保持恒定溫濕度

轉(zhuǎn)子流量計(jì)

1套

控制流速在0.3～0.5L/Min

漏電開關(guān)

1套


24V電源

1套


蠕動(dòng)泵

1套

選配，定時(shí)排水

散射風(fēng)扇

2套

選配

節(jié)流閥

2套


減壓閥

1套

高壓時(shí)選配

7寸觸摸顯示屏

1套

選配，帶歷史數(shù)據(jù)儲(chǔ)存

標(biāo)定氣接口

1套

選配

反吹電磁閥

1套

選配

1.2

氣體污染物分析儀

SK/MIC-600-H2SO4-SSY

1套


1.3

軟管

￠6



1.4

伴熱管

\


選配

2.系統(tǒng)控制及數(shù)據(jù)采集子系統(tǒng)

2.1

無(wú)線傳輸模塊

\

1個(gè)

選配

2.2

數(shù)采儀

\

1個(gè)

選配

東日瀛能可燃?xì)怏w檢測(cè)報(bào)警器量程參照法規(guī)：

 

關(guān)于有毒有害氣體接觸限值與其濃度多少時(shí)對(duì)人體的危害等相關(guān)問題，請(qǐng)咨詢東日瀛能銷售人員。

 

常用氣體選型表

檢測(cè)氣體

量程

允許

誤差值

最小讀數(shù)

響應(yīng)時(shí)間T90

可 燃?xì)?/span>(E X)

0-100%LEL

＜±3%(F.S)

0.1%LEL

≤10秒

可 燃?xì)?/span>(E X)

0-100%Vol

＜±3%(F.S)

0.1%Vol

≤10秒

甲 烷(C H4)

0-100%LEL

＜±3%(F.S)

0.1%LEL

≤10秒

甲 烷(C H4)

0-100%Vol

＜±3%(F.S)

0.1%Vol

≤10秒

氧 氣(O 2)

0-30%Vol

＜±3%(F.S)

0.01%Vol

≤10秒

氧 氣(O 2)

0-100%Vol

＜±3%(F.S)

0.01%Vol

≤10秒

氧 氣(O 2)

0-5000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

氮 氣(N 2)

0-100%Vol

＜±3%(F.S)

0.01%Vol

≤10秒

一氧 化碳(C O)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤25秒

一氧 化碳(C O)

0-1000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤25秒

一氧 化碳(C O)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤25秒

一氧 化碳(C O)

0-20000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤25秒

一氧 化碳(C O)

0-100000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤25秒

二氧 化碳(C O 2)

0-500ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤20秒

二氧 化碳(C O 2)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤20秒

二氧 化碳(C O 2)

0-5000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤20秒

二氧 化碳(C O 2)

0-50000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

二氧 化碳(C O 2)

0-20%Vol

＜±3%(F.S)

0.01%Vol

≤30秒

二氧 化碳(C O 2)

0-100%Vol

＜±3%(F.S)

0.01%Vol

≤30秒

甲 醛(CH 2O)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

甲 醛(CH 2O)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

甲 醛(CH 2O)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

甲 醛(CH 2O)

0-1000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤45秒

臭 氧(O 3)

0-1ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤20秒

臭 氧(O 3)

0-5ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤20秒

臭 氧(O 3)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤20秒

臭 氧(O 3)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤20秒

臭 氧(O 3)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

臭 氧(O 3)

0-30000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

臭 氧(O 3)

0-20mg/L

＜±3%(F.S)

0.01mg/L

≤30秒

臭 氧水(O 3)

0-20mg/L

＜±3%(F.S)

0.01mg/L

≤30秒

硫化 氫(H 2S)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

硫化 氫(H 2S)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

硫化 氫(H 2S)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

硫化 氫(H 2S)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

硫化 氫(H 2S)

0-10000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤45秒

二氧 化硫(SO 2)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

二氧 化硫(SO 2)

0-20ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

二氧 化硫(SO 2)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

二氧 化硫(SO 2)

0-500ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

二氧 化硫(SO 2)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

二氧 化硫(SO 2)

0-10000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

一氧 化氮(N O)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

一氧 化氮(N O)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

一氧 化氮(N O)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

一氧 化氮(N O)

0-5000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

二氧 化氮(N O 2)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤25秒

二氧 化氮(N O 2)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤25秒

二氧 化氮(N O 2)

0-1000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

二氧 化氮(N O 2)

0-5000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

二氧 化氮(N O 2)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

氮氧 化物(N OX)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

氮氧 化物(N OX)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

氮氧 化物(N OX)

0-5000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

氯 氣(CL 2)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

氯 氣(CL 2)

0-20ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

氯 氣(CL 2)

0-200ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

氯 氣(CL 2)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

氨 氣(N H3)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

氨 氣(N H3)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

氨 氣(N H3)

0-1000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

氨 氣(N H3)

0-5000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

氨 氣(N H3)

0-100%LEL

＜±3%(F.S)

0.1%LEL

≤10秒

氫 氣(H 2)

0-100%LEL

＜±3%(F.S)

0.1%LEL

≤10秒

氫 氣(H 2)

0-1000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

氫 氣(H 2)

0-20000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

氫 氣(H 2)

0-40000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

氫 氣(H 2)

0-100%Vol

＜±3%(F.S)

0.01%Vol

≤20秒

氦 氣(H e)

0-100%Vol

＜±3%(F.S)

0.01%Vol

≤20秒

氬 氣(A r)

0-100%Vol

＜±3%(F.S)

0.01%Vol

≤20秒

氙 氣(X e)

0-100%Vol

＜±3%(F.S)

0.01%Vol

≤20秒

氰化 氫(H CN)

0-30ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

氰化 氫(H CN)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

氯化 氫(H CL)

0-20ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

氯化 氫(H CL)

0-200ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

磷化 氫(P H3)

0-5 ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

磷化 氫(P H3)

0-25 ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

磷化 氫(P H3)

0-2000 ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

二氧 化氯(CLO 2)

0-1ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

二氧 化氯(CLO 2)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

二氧 化氯(CLO 2)

0-200ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

環(huán)氧 乙烷(ET O)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

環(huán)氧 乙烷(ET O)

0-1000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

環(huán)氧 乙烷(ET O)

0-100%LEL

＜±3%(F.S)

1%LEL

≤30秒

光 氣(C OCL 2)

0-1ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤20秒

光 氣(C OCL 2)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤20秒

硅 烷(Si H4)

0-1ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

硅 烷(Si H4)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

氟 氣(F 2)

0-1ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

氟 氣(F 2)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

氟 氣(F 2)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

氟化 氫(H F)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

氟化 氫(H F)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

溴化 氫(HB r)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

(B2 H6)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

砷化 氫(As H3)

0-1ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

砷化 氫(As H3)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

砷化 氫(As H3)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

鍺 烷(Ge H4)

0-2ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

鍺 烷(Ge H4)

0-20ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

聯(lián) 氨(N 2 H4)

0-1ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

聯(lián) 氨(N 2 H4)

0-300ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

四氫 噻吩(TH T)

0-100mg/m3

＜±3%(F.S)

0.01 mg/m3

≤60秒

溴 氣(B r2)

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.001ppm

≤30秒

溴 氣(B r2)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

溴 氣(B r2)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

乙 炔(C2H 2)

0-100%LEL

＜±3%(F.S)

0.1%LEL

≤30秒

乙 炔(C2H 2)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

乙 炔(C2H 2)

0-1000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

乙 烯(C2 H4)

0-100%LEL

＜±3%(F.S)

0.1%LEL

≤30秒

乙 烯(C2 H4)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

乙 烯(C2 H4)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

乙 醛（C2 H4O）

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

乙 醇(C2 H6O)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

乙 醇(C2 H6O)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

甲 醇(C H6O)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

甲 醇(C H6O)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

二硫 化碳(C S2)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

二硫 化碳(C S2)

0-5000ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

丙烯 腈(C3 H3N)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

丙烯 腈(C3 H3N)

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

甲 胺(C H5N)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

典 氣(I 2)

0-50ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

苯乙 烯(C8 H8)

0-200ppm

＜±3%(F.S)

0.1ppm

≤30秒

苯乙 烯(C8 H8)

0-5000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

氯乙 烯(C2H3 CL)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

三氯 乙烯(C2H CL3)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

四氯 乙烯(C2 CL4)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

笑 氣(N 2O)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

三氟 化氮(N F3)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

過(guò)氧 化氫(H 2O 2)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

硫酰 氟(SO 2F 2)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

硫酰 氟(SO 2F 2)

0-30000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

硫酰 氟(SO 2F 2)

0-200g/m3

＜±3%(F.S)

0.1g/m3

≤30秒

硫酰 氟(SO 2F 2)

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

硫酰 氟(SO 2F 2)

0-5000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

硫酰 氟(SO 2F 2)

0-10000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒

C6 H6

0-10ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

C6 H6

0-100ppm

＜±3%(F.S)

0.01ppm

≤30秒

C6 H6

0-2000ppm

＜±3%(F.S)

1ppm

≤30秒